PVD 真空镀膜设备和系统

• 类型： 蒸发镀、磁控溅射镀、电弧离子镀、复合镀等等

• 真空市尺寸：Ø600*720H/ Ø800*900H/ Ø1000*1100H/ 其他

• 抽气主泵：有扩散泵/分子泵

• 极限真空：8x10˜4 Pa

• 恢复真空： 空载，从大气到5x10˜3 Pa 在12分钟内

• 离子清洗系统：柱状阴极/线形离子源

• 镀膜源：蒸发源/溅射靶/电弧源

• 膜厚测量系统：光学膜厚监控系统/石英晶体测厚仪

• 工艺气体：气体流量控制系统/自动压强控制系统

• 工件加热：溴钨灯/电阻丝/管状加热器

• 工件装置：上驱动/下驱动

• 工件夹具：球面拱形/行星式/翻转式/平面夹具

• 电控系统：手动/半自动/全自动控制

• 膜层：金属膜、氧化膜、化合膜

应用

• 工模具上镀超硬膜层: TiN, TiC, ZrN, CrN 等.

• 塑胶、玻璃、金属等基材的手机外壳、按键、视窗、光学镜片上镀彩色装饰膜、光学膜等

ZX800 系列和 JZC1000 系列

FZJ1100 系列和 ZZS660 系列

ZX660 系列和镀膜室内部

线性离子源和阳极膜离子源

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